專注於膠粘（zhān）劑的研發製造
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光刻膠又稱光致抗（kàng）蝕劑，本質（zhì）是一種感（gǎn）光材料（liào），是電子領域微細圖形（xíng）加工的關鍵性材料，在半導體、LCD、PCB等行業的（de）生（shēng）產中具有重要作用（yòng）。近年來，隨著集（jí）成電路的快速發（fā）展，光刻膠行業景（jǐng）氣度（dù）不斷提（tí）高。
2021年2月，位於日本（běn）東北地區最南部的（de）福島縣發（fā）生了一場7.3級地震。這場地震雖沒有像2011年那場9級地震一樣導致核電廠泄漏，但卻造成了設立在福（fú）島縣周邊半導體工廠的數日（rì）停產。汽（qì）車芯片大廠瑞（ruì）薩電子的那（nà）坷工廠、位（wèi）於宮城縣的索尼半導體工廠，與福島鄰近的（de）岩手、群馬等地，也匯集了MLCC廠商TDK和太陽（yáng）誘電，以及存儲器（qì）廠商鎧俠...
光刻膠本質是一種感光材料，也稱光（guāng）致抗蝕劑（jì），主要（yào）用於微電子技術中微細圖形加工。在紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射下（xià），光刻膠溶解度會發生變（biàn）化，再經適當溶劑溶去可溶性部分，便可實現圖形從掩（yǎn）模版到待加工基片上（shàng）的轉移。進一步，未溶解部分光刻膠作為保（bǎo）護（hù）層（céng），在刻蝕步驟中保護其下方材（cái）料不被刻蝕，從而完成電路製作。產品分（fèn）類上，...
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